टंगस्टन VI क्लोराइड CAS 13283-01-7
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टंगस्टन VI क्लोराइड CAS 13283-01-7

टंगस्टन VI क्लोराइड CAS 13283-01-7

उत्पाद का नाम: टंगस्टन VI क्लोराइड
CAS No.:13283-01-7
आणविक सूत्र: CL6W
Einecs.no:236-293-9
पर्यायवाची: टंगस्टन क्लोराइड; टंगस्टेन (+6) क्लोराइड; टंगस्टन (vi) क्लोराइड; (oc - 6 - 11) - tungstenchlorid; (oc -} 6-11) -tungstenchloride (WCl6; हेक्सक्लोरोटुंगस्टेन; टंगस्टेन चोरिनड (wcl6), (oc-6-11)।
शिपिंग: डीएचएल, जर्मनी डीएचएल, जर्मनी डीपीडी, यूपीएस, यूएसपीएस, फेडेक्स, ईएमएस, हवा द्वारा, समुद्र आदि द्वारा
स्टोर और शेल्फ जीवन; शांत और सूखी जगह; 36 महीने
अन्य: संयुक्त राज्य अमेरिका, ऑस्ट्रेलिया और जर्मनी में गोदाम हैं।

विवरण

टंगस्टन VI क्लोराइड क्या है?

टंगस्टन क्लोराइड का रासायनिक सूत्र WCL6 है, और इसकी उपस्थिति गहरे नीले या नीले - बैंगनी ठीक - दानेदार पाउडर, घुलनशील कार्बनिक विलायक है, जो आसानी से गर्म पानी से विघटित हो जाती है। जब गर्म किया जाता है,टंगस्टन VI क्लोराइडटंगस्टन ऑक्सीक्लोराइड या टंगस्टन ऑक्साइड उत्पन्न करने के लिए हवा में ऑक्सीजन द्वारा ऑक्सीकरण किया जाता है, जबकि टंगस्टन ऑक्सीक्लोराइड युक्त WCL6 पानी के वाष्प द्वारा आसानी से विघटित हो जाता है, और यह टंगस्टन पाउडर को उच्च तापमान पर कम कर दिया जाता है।

हेक्साक्लोरोटुंगस्टेन एक नया कच्चा माल है, जिसका उपयोग टंगस्टन की शुद्धि और कार्बनिक पदार्थों के संश्लेषण के लिए किया जा सकता है, या वाष्प जमाव द्वारा टंगस्टन चढ़ाना के लिए, रासायनिक उद्योग में उत्प्रेरक आवेदन के लिए, या ग्लास उद्योग के लिए, मुख्य रूप से सतह कोटिंग्स के उत्पादन के लिए।

The structural formula of Tungsten VI Chloride
प्रोडक्ट का नाम

टंगस्टन VI क्लोराइड

कैस 13283-01-7
संरचनात्मक सूत्र CL6W
आणविक वजन 396.56
Einecs 236-293-9
गलनांक 275 डिग्री (लिट)
क्वथनांक 347 डिग्री (लिट।)
जल घुलनशीलता घुलनशील कार्बनिक विलायक
घनत्व 25 डिग्री पर 3.52 ग्राम/एमएल (लिट)
भंडारण की स्थिति 2-8 डिग्री, प्रकाश से सुरक्षित, नाइट्रोजन के तहत संग्रहीत

टंगस्टन VI क्लोराइड का मुख्य उद्देश्य क्या है?

1। रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) और पतली फिल्म की तैयारी
अर्धचालक और इलेक्ट्रॉनिक उद्योग: एक अग्रदूत के रूप में,टंगस्टन VI क्लोराइडएकीकृत सर्किट, इलेक्ट्रोड या बाधा परतों के लिए टंगस्टन पतली फिल्मों या टंगस्टन डोपेड सामग्री को तैयार करने के लिए उपयोग किया जाता है।
फोटोवोल्टिक सामग्री: इसका उपयोग सौर कोशिकाओं में पारदर्शी प्रवाहकीय फिल्मों के जमाव के लिए किया जा सकता है।
2। कार्बनिक संश्लेषण और उत्प्रेरक
ओलेफिन मेटाथेसिस रिएक्शन: इसका उपयोग एक उत्प्रेरक या उत्प्रेरक अग्रदूत के रूप में किया जाता है, जो कार्बन - कार्बन बॉन्ड के पुनर्संयोजन में भाग लेने के लिए होता है।
पॉलिमर पोलीमराइजेशन: कुछ पोलीमराइजेशन प्रतिक्रियाओं में कोकाटालिस्ट के रूप में उपयोग किया जाता है।
3। सामग्री विज्ञान
नैनो - सामग्री का संश्लेषण: इसका उपयोग टंगस्टन नैनोकणों और टंगस्टन कार्बाइड जैसी कठोर सामग्री तैयार करने के लिए किया जाता है।
सिरेमिक और कोटिंग्स: टंगस्टन - उच्च तापमान प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध के साथ आधारित कोटिंग्स पायरोलिसिस द्वारा उत्पन्न होते हैं।

Tungsten VI Chloride may be used for the deposition of transparent conductive films in solar cells.

4। प्रयोगशाला अनुसंधान
अकार्बनिक रसायन विज्ञान: एक मजबूत ऑक्सीडेंट या क्लोरीनेटर के रूप में, हेक्साक्लोरोटुंगस्टेन अन्य धातु यौगिकों के संश्लेषण में भाग लेता है।
समन्वय रसायन विज्ञान:टंगस्टन VI क्लोराइडटंगस्टन के उच्च वैलेंस समन्वय संरचना का अध्ययन करने के लिए उपयोग किया जाता है।
5। अन्य विशेष अनुप्रयोग
PhoteSensitive सामग्री: इसका उपयोग कुछ फोटोकैमिकल प्रतिक्रियाओं में एक Photosensitizer के रूप में किया जा सकता है।
सैन्य और एयरोस्पेस: हेक्साक्लोरोटुंगस्टेन का उपयोग संभावित रूप से उच्च - ऊर्जा सामग्री या घटक के लिए किया जाता है, जो चरम पर्यावरण के लिए प्रतिरोधी है (आगे के विकास की आवश्यकता है)।

टंगस्टन VI क्लोराइड की तैयारी विधि क्या है?

शोधकर्ताओं ने उच्च - शुद्धता टंगस्टन हेक्साक्लोराइड की एक तैयारी विधि को आगे रखा, जिसे निम्नलिखित चरणों की आवश्यकता है: कच्चे माल के ढोंग, किसी न किसी टंगस्टन हेक्साक्लोराइड, परिष्कृत टंगस्टन हेक्साक्लोराइड, संघनन रिसेप्शन और टेल गैस उपचार।
Step 1: Pretreatment of raw materials. Screen or sintering to obtain large-particle tungsten pow (> 75um), raising that temperature to 600-1000 DEG C, and dehydrating and deoxidizing the screen large-particle activated carbon (>75um) उच्च तापमान पर।
चरण 2: रफ टंगस्टन हेक्साक्लोराइड। टंगस्टन हेक्साक्लोराइड और टंगस्टन क्लोराइड अशुद्धियों को भाप के रूप में गैस आउटलेट के माध्यम से रासायनिक गैस प्रवाह के साथ बड़े कण टंगस्टन पाउडर की प्रतिक्रिया से उत्पन्न किया जाता है।

the preparation method of Tungsten VI Chloride
 
चरण 3: टंगस्टन हेक्साक्लोराइड को परिष्कृत करना। उपचारित सक्रिय कार्बन एक शोधन भट्ठी में भर जाता है, शोधन तापमान 600-1000 डिग्री सेल्सियस है, और टंगस्टन ऑक्सीक्लोराइड और टंगस्टन हेक्साक्लोराइड को भाप में कम कर दिया जाता है।
चरण 4: संघनन और प्राप्त करना। परिष्कृत भाप रिसीवर में प्रवेश करती है, और ठंडा पानी का तापमान 30 - 250 डिग्री पर उच्च शुद्धता प्राप्त करने के लिए नियंत्रित होता हैटंगस्टन VI क्लोराइडपाउडर, और टेल गैस को डिस्चार्ज किया जाता है।
चरण 5: टेल गैस उपचार। पूंछ गैस को पूंछ गैस अवशोषण टैंक में समाधान द्वारा अवशोषित किया जाता है, और शुद्ध पूंछ गैस को मानक तक छुट्टी दे दी जाती है।

उत्पाद विनिर्देशन

सामान विशेष विवरण परिणाम    
उपस्थिति ग्रे से गहरे भूरे रंग के नीले पाउडर अनुपालन    
परख 98%-101% 99.9%    
सूखने पर नुकसान 5.0% से कम या बराबर 0.07%    
प्रज्वलन पर छाछ 0.1% से कम या बराबर 0.04%    
हैवी मेटल्स 10ppm से कम या बराबर 5ppm    
जैसा 1ppm से कम या बराबर 1ppm से कम या बराबर    
पंजाब 1ppm से कम या बराबर 1ppm से कम या बराबर    
सीडी 1ppm से कम या बराबर 1ppm से कम या बराबर    
एचजी 0.1ppm से कम या बराबर 0.1ppm से कम या बराबर    
कुल प्लेट गिनती 1000cfu/g से कम या बराबर <10CFU/g    
खमीर और मोल्ड 100cfu/g से कम या बराबर <10CFU/g    
इशरीकिया कोली नकारात्मक नकारात्मक    
पीरुगिनोसा नकारात्मक नकारात्मक    
एस। औरियस नकारात्मक नकारात्मक    
सैल्मोनेला नकारात्मक नकारात्मक    
निष्कर्ष: परीक्षण के परिणाम - हाउस स्पेसिफिकेशन के अनुरूप हैं      

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फ़ायदा

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50 किलोग्राम से कम के लिए उपयुक्त।
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